每款(kuan)產品都(dou)不希望產品表(biao)面(mian)出(chu)現凹凸不平，坑坑洼(wa)洼(wa)的(de)(de)面(mian)部，所(suo)以對(dui)于(yu)硅膠(jiao)(jiao)制品的(de)(de)表(biao)面(mian)光(guang)潔度固然(ran)重要(yao)(yao)，硅膠(jiao)(jiao)制品主(zhu)模(mo)(mo)拋光(guang)方式主(zhu)要(yao)(yao)是(shi)降低(di)模(mo)(mo)具鋼材(cai)表(biao)面(mian)的(de)(de)粗糙度，想要(yao)(yao)真正保(bao)證(zheng)硅膠(jiao)(jiao)制品的(de)(de)表(biao)面(mian)光(guang)潔度還是(shi)需要(yao)(yao)從模(mo)(mo)具工藝(yi)上(shang)面(mian)著手，那么對(dui)于(yu)硅膠(jiao)(jiao)模(mo)(mo)具的(de)(de)表(biao)面(mian)光(guang)潔度工藝(yi)都(dou)有哪些(xie)處理方式呢？

模具拋光(guang)可分為多種工(gong)藝(yi)方(fang)式(shi)，在(zai)硅膠模具中運用不同的(de)處理方(fang)法，其(qi)中以下(xia)表面(mian)處理方(fang)法為常見工(gong)藝(yi)！

1、電解拋光

電(dian)解(jie)拋(pao)光是靠選擇性的溶解(jie)材料(liao)表(biao)面(mian)微小凸出部分(fen)，使表(biao)面(mian)光滑。與化學(xue)拋(pao)光相(xiang)比，可以消(xiao)除陰(yin)極(ji)反(fan)應的影響，效果(guo)較好。電(dian)化學(xue)拋(pao)光過程分(fen)為兩步:

(1)宏(hong)觀整平(ping)溶(rong)解產物向電(dian)解液中擴(kuo)散(san)，材料(liao)表面幾何粗(cu)糙下降，Ra>1μm。

(2)微(wei)光平(ping)整陽極極化，表面光亮度提(ti)高(gao)，Ra<1μm。

2、機械拋光(guang)

機械拋(pao)(pao)光(guang)是(shi)靠(kao)切削材料(liao)表(biao)面(mian)塑性變(bian)形(xing)去(qu)掉(diao)被(bei)拋(pao)(pao)光(guang)后的(de)凸(tu)部而得到平(ping)滑面(mian)的(de)拋(pao)(pao)光(guang)方法(fa)，一般使用油(you)石(shi)條、羊毛輪、砂紙等(deng)(deng)，以手工(gong)操作 為主，特殊零件(jian)如(ru)回(hui)轉體表(biao)面(mian)，可使用轉臺等(deng)(deng)輔(fu)助工(gong)具(ju)，表(biao)面(mian)質量要求高(gao)(gao)的(de)可采(cai)用超(chao)精研拋(pao)(pao)的(de)方法(fa)。超(chao)精研拋(pao)(pao)是(shi)采(cai)用特制(zhi)的(de)磨具(ju)，在含(han)有磨料(liao)的(de)研拋(pao)(pao)液(ye)中，緊壓在工(gong)件(jian)被(bei)加(jia)工(gong)表(biao)面(mian)上(shang)，作高(gao)(gao)速旋轉運(yun)動。利用該(gai)技(ji)術可以達到Ra0.008μm的(de)表(biao)面(mian)粗糙度，是(shi)各種拋(pao)(pao)光(guang)方法(fa)中更高(gao)(gao)的(de)。

3、超聲波(bo)拋光(guang)

超(chao)聲波拋光(guang)是利用(yong)超(chao)聲波作為動力(li)，推動細小的(de)磨粒以極高的(de)速度沖擊工(gong)件表面(mian)，迫使磨料對被加(jia)工(gong)表面(mian)進行加(jia)工(gong)，從而降低其表 面(mian)粗糙度的(de)拋光(guang)方(fang)法。

4、流體拋光

流(liu)體(ti)(ti)拋光(guang)(guang)是依靠高(gao)速流(liu)動的液(ye)體(ti)(ti)及其攜(xie)帶的磨(mo)(mo)粒(li)(li)沖刷工(gong)(gong)件表面達到(dao)拋光(guang)(guang)的目的。常用方法(fa)有:磨(mo)(mo)料噴(pen)射(she)加(jia)(jia)工(gong)(gong)、液(ye)體(ti)(ti)噴(pen)射(she)加(jia)(jia)工(gong)(gong)、流(liu)體(ti)(ti) 動力研(yan)磨(mo)(mo)等。流(liu)體(ti)(ti)動力研(yan)磨(mo)(mo)是由液(ye)壓驅動，使攜(xie)帶磨(mo)(mo)粒(li)(li)的液(ye)體(ti)(ti)介質高(gao)速往復(fu)流(liu)過(guo)工(gong)(gong)件表面。介質主要采(cai)用在較低(di)壓力下流(liu)過(guo)性好的特殊 化合物并摻上磨(mo)(mo)料制(zhi)成(cheng)，磨(mo)(mo)料可采(cai)用碳(tan)化硅(gui)粉末。

5、磁研磨拋(pao)光(guang)

磁研磨(mo)拋光(guang)是利用磁性磨(mo)料在磁場作(zuo)用下形(xing)成磨(mo)料刷，對工件磨(mo)削加工。這種方法(fa)加工效率高，質(zhi)量好(hao)，加工條件容(rong)易(yi)控制，工作(zuo)條件好(hao)。采用合(he)適的磨(mo)料，表面粗糙度(du)可以達到Ra0.1μm。

在硅膠制品(pin)(pin)生產廠家而(er)言模具(ju)的(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光光潔(jie)度(du)(du)(du)取(qu)決于產品(pin)(pin)的(de)(de)(de)(de)外觀(guan)質量程度(du)(du)(du)，所(suo)以拋(pao)(pao)光工(gong)藝相同(tong)(tong)是重要的(de)(de)(de)(de)一個工(gong)序，與其他行業拋(pao)(pao)光工(gong)藝不同(tong)(tong)，相對(dui)而(er)言模具(ju)拋(pao)(pao)光也(ye)是提升硅橡膠制品(pin)(pin)的(de)(de)(de)(de)加(jia)工(gong)效(xiao)率與產品(pin)(pin)的(de)(de)(de)(de)質量等等，所(suo)以您購買(mai)的(de)(de)(de)(de)硅膠產品(pin)(pin)表面光潔(jie)度(du)(du)(du)好(hao)(hao)不好(hao)(hao)正(zheng)式(shi)取(qu)決于模具(ju)的(de)(de)(de)(de)拋(pao)(pao)光工(gong)藝做的(de)(de)(de)(de)好(hao)(hao)不好(hao)(hao)了！